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浙江创芯请求光学附近批改办法和设备等专利提高光学附近批改办法收敛性
时间: 2024-12-26 06:13:22 | 作者: 华体会app怎么样
金融界2024年10月31日音讯，国家知识产权局信息数据显现，浙江创芯集成电路有限公司请求一项名为“光学附近批改办法和设备、计算机可读存储介质”的专利，公开号 CN 118838111 A，请求日期为2024年9月。
专利摘要显现，一种光学附近批改办法及其批改设备、计算机可读存储介质，所述光学附近批改办法有：获取规划地图；对所述规划地图进行切角处理，取得待批改地图；对所述待批改地图进行批改以取得流片地图。经过对规划地图进行切角处理，使规划地图中角落之距离离转变为最小线距离，以减少待批改地图中违背掩膜规划规矩的图形，从而到达提高光学附近批改办法收敛性的意图。
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